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학술저널
저자정보
이권재 (숭실대학교 물리학과) 고재귀 (숭실대학교 물리학과) 신재수 (대전대학교 이과대학 전자재료과학과)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제13권 제1호
발행연도
2003.1
수록면
31 - 35 (5page)

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The intensity is measured as functions of both distance from filament to substrate and $CH_3$OH/($CH_3$OH＋$H_2$O) ratio by OES(Optical Emission Spectroscopy) to investigate the effects of activation species such as $H_{\alpha}$, $H_{\beta}$, H$\Upsilon\;C_3$, CH on diamond film growth.$ H_{\alpha}$ increases as $CH_3$OH composition decreases, while CH increases as $CH_3$OH composition increases. The intensity of $H_{\alpha}$ decreases as the distance increases and that of CH increases as the distance increases. The intensities of other activation species of $H_{\beta}$, H$\Upsilon\;C_3$, do not vary as a function of measured position distance. It varies randomly. It means that various parameters for depositing diamond thin film can be explained by the intensity(density) change of activation species, as a function of the distance of the filament.
#HFCVD method #diamond film #OES #$H_{alpha}$ #$H_{beta}$ #$H_{gamma}$

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