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학술저널
저자정보
조승찬 (부산대학교 재료공학부) 황윤철 (부산대학교 재료공학부) 이근우 (한양대학교 신소재공학부) 한세진 (한양대학교 신소재공학부) 김인배 (부산대학교 재료공학부) 전형탁 (한양대학교 신소재공학부) 김양도 (부산대학교 재료공학부)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제15권 제9호
발행연도
2005.1
수록면
594 - 597 (4page)

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The barrier characteristics of ZrN films deposited by remote plasma enhanced atomic layer deposition(PEALD) using TDEAZ and $N_2$ remote plasma have been investigated under various deposition conditions such as temperatures, plasma power and processing pressures. ZrN films showed generally improved properties as the processing temperature, pressure and plasma power increased. The optimized processing temperature, plasma power and pressure were $300^{\circ}C$, 200 Watt and 1 torr. respectively ZrN films deposited at the optimized processing conditions showed the carbon contents and resistivity of $6at.\%$ and $400{\mu}{\Omega}cm$ respectively.
#remote PEALD #ZrN films #diffusion barrier

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