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Oh, Teresa (School of Electronic and Information Engineering, Cheongju University) Kim, Hong Bae (School of Electronic and Information Engineering, Cheongju University) Kwon, Hak Yong (School of Electronic and Information Engineering, Cheongju University) Son, Jae Gu (School of Electronic and Information Engineering, Cheongju University)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 반도체및디스플레이장비학회지 반도체및디스플레이장비학회지 제4권 제3호
발행연도
2005.1
수록면
5 - 9 (5page)

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The bonding structure of organic materials such as fluorinated amorphous carbon films was classified into two types due to the chemical shifts. The electrical properties of fluorinated amorphous carbon films also showed very different effect of two types notwithstanding a very little difference. Fluorinated amorphous carbon films with the cross-link break-age structure existed large leakage current resulting from effect of the electron tunneling. Increasing the cation due to the electron-deficient group increased the barrier height of the films with the cross-link amorphous structure, therefore the electric characteristic of the final materials with low dielectric constant was also improved. The lowest dielectric constant is 2.3 at the sample with the cross-link amorphous structure.

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