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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
You, Yil-Hwan (Ceramics and Chemicals Technology Inc.) Kim, Jung-Seok (Ceramics and Chemicals Technology Inc.) Hwang, Jin-Ha (Dept. of Mat. Sci. & Eng., College of Engineering, Hongik University)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 반도체및디스플레이장비학회지 반도체및디스플레이장비학회지 제5권 제1호
발행연도
2006.1
수록면
51 - 55 (5page)

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MgO thin films were prepared through electron-beam deposition onto ITO-coated glass substrates in order to measure electrical, dielectric, and microstructural properties. Design of experiments was performed in this study with the aim to understanding of the effects of processing variables, e.g., substrate temperature and filament current of an e-beam evaporator statistically. Leakage currents, relative dielectric constants, and diffraction intensities of MgO thin films were analyzed statistically, following the analysis procedure provided in the design of experiments. The leakage current level of MgO thin films has been found to be statistically significant at the level of $\alpha=0.1$.
#Design of experiments #MgO #leakage current #electrical #dielectric #X-ray diffraction

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