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학술저널
저자정보
이춘수 (한국전자통신연구소 반도체연구단) 최상수 (한국전자통신연구소 반도체연구단) 백종태 (한국전자통신연구소 반도체연구단) 유형준 (한국전자통신연구소 반도체연구단)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제5권 제2호
발행연도
1995.1
수록면
208 - 214 (7page)

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콘택 홀 패턴의 미세화가 HF 용액의 침투에 미치는 영향을 파악하고자, 미세 채널 패턴에서의 산화막 습식 식각 특성을 조사하였다. LPCVD로 증착된 산화막을 두께 0.1~1$\mu\textrm{m}$, 선폭 0.1~20$\mu\textrm{m}$, 그리고 초기 깊이 ~1.2$\mu\textrm{m}$ 범위의 질화막으로 둘러 쌓인 미세 채널 패터으로 제작한 후, HF용액에 의한 산화막의 식각속도를 관찰하였다. 실험 결과로써, 크기가 $0.1 \times 0.1 \mu \textrm{m}^{2} 초기 깊이가 1.2$\mu\textrm{m}$인 고종횡비(~12)의 초미세 패턴에서도 식각 속도가 일정함을 볼 수 있어서, 콘택 홀 패턴의 미세화에 관계없이 반응액의 침투가 원활하게 이루어짐을 알 수 있었다.

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