MICP에 의한 RuO₂ 박막의 건식 식각 특성

장제욱 ,  이영준 ,  이용혁 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1999 .05

CF₄ 플라즈마를 이용한 건식식각에 관한 연구

황기웅 ,  이종덕 ,  김성철 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1986 .12

CF4 플라즈마를 이용한 건식식각에 관한 연구 ( A study on dry etching process using CF4 Plasma )

김성철 ,  황기웅 ,  이종덕 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1986 .01

$RuO_2$ 박막의 비저항

홍석경 ,  문경하 ,  윤찬주 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

고밀도 플라즈마를 이용한 PZT용 Pt / RuO2 이중박막의 식각 ( Dry Etching of Pt / RuO2 for Pb ( Zr , Ti ) O3 by High Density Plasma )

이종근 ,  박세근

전자공학회논문지-SD

2000 .03

ICP Etching of RuO2 Thin films

이종근 ,  정형섭 ,  박세근 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

D.C Reactive Sputter 법에 의한 $RuO_2$ 박막 제조

선호정 ,  홍권 ,  유상호 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

Thermal과 Plasma 화학기상증착법을 이용한 RuO$_2$박막형성에 관한 연구

김현미 ,  박성언 ,  김기범

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

RF 스퍼터링을 이용한 RuO₂ 박막 제작 및 물성 분석

정웅현 ,  조성학 ,  최원석 외 4명

한국생산제조학회 학술발표대회 논문집

2017 .04

$RuO_2$ MOCVD를 위한 TiN막의 ECR plasma 전처리

이종무 ,  김대교 ,  엄태종 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2003 .01

$\textrm{RuO}_2$ 박막의 산소 분위기 열처리시 열적 안정성에 관한 연구

오상호 ,  박찬경 ,  백홍구

한국재료학회지

1998 .01

CF4/O2 gas 플라즈마를 이용한 폴리이미드 박막의 식각

강필승 ,  김창일 ,  김상기

전기전자재료학회논문지

2002 .01

Reactive Sputter에 의한 RuO2의 증착 및 특성

이종근 ,  권철순 ,  이호녕 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .01

ECR 플라즈마 식각 장치에서 플라즈마 물성이 식각 특성에 미치는 영향

金正浩 ,  李昈駿 ,  李晳賢 외 1명

전기학회논문지

1993 .04

ECR 플라즈마를 이용한 Cu 박막의 건식 식각특성에 관한 연구

이성권 ,  이원종 ,  천성순

한국재료학회 학술발표대회

1995 .01

RF Magnetron Reactive Sputtering 법을 이용한 RuO₂ 박막의 제작과 특성에 관한 연구

오영석 ,  장동훈 ,  강성준 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .06