Si기판에 주입된 As이온이 Titanium-Silicides 형성에 미치는 영향 - 1 - ( Effects of As Ions Implanted in Si Substrates on the Titanium-Silicides Formation )

정주혁 ,  최진석 ,  백수현

전자공학회논문지

1989 .06

급속 열처리공정 ( RTA ) 에 의한 a-Si / Ti / a-Si 다층구조의 TiSi2 형성에 관한 연구 ( Titanium Silicide Formation of the a-Si / Ti / a-Si Multilayer by Rapid Thermal Annealing )

윤형섭 ,  진영모 ,  강원구 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1987 .11

인이 주입된 poly-Si/SiO2/Si 기판에서 텅스텐 실리사이드의 형성에 관한 연구 ( Study on Formation of W-Silicide in the Doped-Phosphorus poly-Si/SiO2/Si-Substrate )

정회환 ,  주병권 ,  오명환 외 1명

전자공학회논문지-A

1996 .03

Co/Ti/Si 계에서 고상반응에 의한 Cobalt Silicide 형성기구 고찰

이승헌 ,  배준철 ,  신동원 외 1명

한국재료학회지

1996 .01

3축 동시 제어에 의한 4축 가공기의 회전축 평가

아궁샴수딘사라기 ,  고태조 ,  오용택

한국기계가공학회 춘추계학술대회 논문집

2010 .06

Al-1% Si층과 Ti-silicide층의 반응에 관한 연구

황유상 ,  백수현 ,  송영식 외 7명

한국재료학회지

1992 .01

Si$_3$N$_4$를 이용한 Co silicided Si FEA의 제작

정진철 ,  김민영 ,  장지근

한국재료학회 학술발표대회

1999 .01

Al-1%Si 과 Ti-Silicide의 반응성에 관한 연구 ( A Study on the Reaction of Al-1%Si with Ti-Silicide )

송영식 ,  백수현 ,  황유상 외 6명

대한전자공학회 학술대회

1992 .01

Poly-Si/$SiO_2$/Si 기판위에 증착된 코발트실리사이드의 전기적 특성

노영규 ,  장호정

한국재료학회 학술발표대회

2002 .01

$Al_2O_3$/si 기판위에 형성한 (Bi,La)$Ti_3O_{12}$ 박막의 특성

황선환 ,  장호정 ,  장영철

한국재료학회 학술발표대회

2002 .01

Ti-실리사이드 형성에 관한 연구 ( A Study on the Ti-Silicide Formation )

김학균 ,  주승기

대한전자공학회 학술대회

1987 .07

Co/Ti(100)Si 이중층을 이용한 에피텍셜 Co 실리사이드의 형성

권영재 ,  이종무 ,  배대록 외 1명

한국재료학회지

1998 .01

Si(100)의 얇은 산화막을 통한 Co$Si_{2}$형성에 관한 연구

신영철 ,  전형탁

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

Poly-Si에 첨가한 도펀트가 Titanium Silicides 형성에 미치는 영향 2 ( Effects of Dopants Introduced into the Poly-Si on the Formation of Ti-Silicides )

유윤수 ,  최진석 ,  백수현

전자공학회논문지

1990 .02

$TiSi_2$의 상전이에 미치는 박막의 두께 및 기판의 방위의 영향

윤강중 ,  전형탁

한국재료학회지

1995 .01

인간, 건축, 그리고 축(Axis)

주남철

건축사

1976 .01

Poly-Si에 도핑공정변화에 따른 Ti-Silicides 형성반응에 관한 연구 ( The formation of Ti-Silicides with the change of doping process on the poly-Si )

류연수 ,  최진석 ,  백수현

대한전자공학회 학술대회

1988 .11