RF 스퍼터링을 이용한 SiO2 / Ta2O5 , SiO2 / ZrO2 박막의 무반사 특성 ( Anti-Reflection Characteristic of SiO2 / Ta205 , SiO2 / ZrO2 Film using the RF Sputter )

이풍엽 ,  임우택 ,  이진규 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1992 .11

플라즈마 화학증착법에 의한 $ZrO_2$박막과 $Y_{2}O_{3}$로안정화된 $ZrO_2$박막의 특성

김의태 ,  윤순길

한국재료학회 학술발표대회

1992 .01

Si-SiO₂系의 問題点과 研究動向

成英權

전기의세계

1985 .06

다결정 Si/SiO₂ ∥ Si 적층구조에서 SiO₂층의 두께에 따른 유전특성의 변화

송오성 ,  이영민 ,  이진우

한국표면공학회지

2000 .08

차세대 고집적 MOS 소자를 위한 ALD ZrO₂ 박막의 특성 연구

안성준 ,  안승준

한국산학기술학회 논문지

2008 .02

Capacitance-Voltage Characteristics in the Double Layers of SiO₂/Si₃N₄

洪能杓 ,  洪眞雄

전기학회논문지 C

2003 .10

Al2O3의 물리적 성질 및 전기전도도에 미치는 단사정 지르코니아와 정방정 지르코니아의 첨가효과

박재성 ,  어수해

전자공학회논문지-IE

2002 .03

SiO₂/Si₃N₄ 2중층 박막의 유전특성

고길영 ,  김균식 ,  홍능표 외 3명

대한전기학회 학술대회 논문집

2003 .07

$Bi_{2}O_{3}$가 첨가된 $Y_{2}O_{3}$ 안정화 $ZrO_2$의 입계전기전도도

김영호 ,  김호기

한국재료학회 학술발표대회

1992 .01

THERMAL ANALYSIS ON POLYMORPHISMS OF Bi203 AND Bi12SiO20

Senlin Fu ,  Hi ,  oyuki Ozoe

KSME/JSME THERMAL and FLUID Engineering Conference

1996 .10

ZrO₂(m)-Al₂O₃/ZrO₂(t)-Al₂O₃ 세라믹스의 제조와 물리적 특성

박재성 ,  박주태 ,  박정량

조명·전기설비학회논문지

2010 .04

인이 주입된 poly-Si/SiO2/Si 기판에서 텅스텐 실리사이드의 형성에 관한 연구 ( Study on Formation of W-Silicide in the Doped-Phosphorus poly-Si/SiO2/Si-Substrate )

정회환 ,  주병권 ,  오명환 외 1명

전자공학회논문지-A

1996 .03