A theoretical approach to the preferred orientation formation of MgO protection layer using adatom diffusion

Yu, Hak-Ki; Lee, Jong-Lam

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: Yu, Hak-Ki (Dept. of Materials Science and Engineering, Pohang University of Science and Technology [POSTECH]) Lee, Jong-Lam (Dept. of Materials Science and Engineering, Pohang University of Science and Technology [POSTECH])

저널정보: 한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2009년도 9th International Meeting on Information Display

발행연도: 2009.1

수록면: 713 - 715 (3page)

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Preferred orientation of MgO protection layer is controlled via adjusting diffusion of adatom between (111) plane with highest neighbor atoms and (200) plane with lowest neighbor atoms. The diffusion of adatom could be modulated by the factors such as substrate temperature, deposition rate, and extra energy applied on adatom like ion beam energy.

#MgO #Secondary electron emission #adatom mobility #preferred orientation #plasma display

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Yu, Hak-Ki

소속기관 Dept. of Materials Science and Engineering, Pohang University of Science and Technology [POSTECH]

주요연구분야 공학 > 전기전자공학 > 전기공학

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Lee, Jong-Lam

소속기관 Division of Advanced Materials Science and Department of Materials Science and Engineering, Pohang U

주요연구분야 공학 > 전기전자공학 > 전기공학

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