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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
왕현철 (원익IPS) 서화일 (한국기술교육대학교)
저널정보
대한전자공학회 전자공학회논문지 전자공학회논문지 제57권 제5호(통권 제510호)
발행연도
2020.5
수록면
29 - 36 (8page)
DOI
10.5573/ieie.2020.57.5.29

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플라스마(Plasma)를 사용하는 반도체 장비에서 가장 중요한 요소는 플라스마의 효율과 플라스마를 제어하는 것이다. 플라스마 효율은 체임버 내 상하부 전극 사이에 흐르는 RF Current Path를 Loss 없이 얼마나 잘 제어할 수 있는가에 있고 본 논문에서는 하부 전극(Bottom Electrode)에 임피던스(Impedance)를 메칭(Matching) 하면서 RF Current를 조절할 방법을 제안했다. 그리고 일반적인 PE-CVD(Plasma-enhanced Chemical Vapor deposition) 설비에서 사용되는 하부 전지 전극구조와 하부 전극 동조회로를 실험하고 서로 비교 분석하였다. 본 논문에서 제안한 방법이 기존 방법과 비교했을 때보다 효율적이고 증착률(D/R, Deposition Rate)과 박막의 특성이 제어가 가능할 수 있음을 확인하였다.
#Semiconductor equipment #PE-CVD #Impedance tuned circuit #RF system #Electrode

목차

요약
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 본론
Ⅲ. 실험
Ⅳ. 결과 및 검토
Ⅴ. 결론
REFERENCES

참고문헌 (8)

참고문헌 신청
신성식 / 2013 / 플라즈마 식각 시뮬레이션을 위한 스캔 방식의 이온 플럭스 계산 방법 / 전자공학회논문지 50:124~132 dbpia W. S. Hong / 2014 / Thin Film Vacuum Process Technology via Chemical Vapor Deposition Methods / Vacuum Magazine :9~13 google schola H.B. Kim / 2013 / Thin Film Technology / SUH HUN :185~187 google schola 채범석 / 2019 / 고전압 용량성 결합 플라즈마 시스템의 개선된 전압 파형 출력을 위한 펄스 전류 발생장치 회로 / 전력전자학회 논문지 24(3):153~160 dbpia Hohyun Song / 2020 / Study on CH4 dry reforming process by high power inductively coupled plasma torch at atmospheric pressure / Current Applied Physics 20(1):196~204 google schola

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