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논문 기본 정보

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학술저널
저자정보
Sunghyun Sohn (Defense Agency for Technology and Quality) Daewon Kim (Defense Agency for Technology and Quality) Hongpyo Kim (Defense Agency for Technology and Quality) Namhyun Kang (Pusan National University)
저널정보
대한용접·접합학회 대한용접·접합학회지 大韓熔接·接合學會誌 第38卷 第2號
발행연도
2020.4
수록면
158 - 165 (8page)

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Wide band gap (WBG) power semiconductors have superior properties and accordingly demand for WBG semiconductors has grown recently in various fields, including national defense applications. Since WBG power semiconductors operate in high temperature conditions, interconnects with high temperature reliability are required. Transient liquid phase bonding (TLPB) is emerging as one of the die attach technologies for WBG power semiconductors. However, TLPB has drawbacks, such as long bonding times and void formation. We investigated various methods to address the shortcomings of TLPB, and determined TLPB time can be reduced and void formation can be suppressed through the development of process and interlayer design. This study describes the principles, strengths and weaknesses of each process and interlayer material design.

목차

Abstract
1. Introduction
2. Process development to reduce TLPB time
3. Interlayer design to reduce TLPB time
4. Conclusions
References

참고문헌 (35)

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