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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2020.2
- 수록면
- 55 - 63 (9page)
- DOI
- 10.7232/JKIIE.2020.46.1.055
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In this paper, two-piece type retainer rings for the chemical-mechanical polishing process of wafers were investigated by applying a finite element method and an improved cross-sectional shape of the retainer ring was suggested to maximize the available wafer area for building wafer-quality-control automation system. By using the experimental data, the finite element model was correlated and validated by showing that the trend of the experimental results was the same as that of the finite element analysis. Then, the improved cross-sectional shape of the retainer ring to minimize the unavailable wafer area was suggested by using the validated finite element model.
목차
1. 서론
2. 유한 요소 모델 검증
3. 생산성을 고려한 현재 모델 변경
4. 결론 및 향후 연구
참고문헌
참고문헌 (9)
참고문헌 신청
Bae, J., Lee, H., Lee, S., Guo, Y., Park, J., Kinoshita, M., and Jeong, H. (2009), Effect of retainer pressure on removal profile and stress distribution in oxide CMP, International Conference on Planarizaiton/ CMP Technology, 345-349.
Guthrie, W. L. and Cheng, T. (1998), Method and apparatus for using a retaining ring to control the edge effect, US Patent 5795215.
Kajiwara, J., Moloney, G. S., Wang, H., Hansen, D.A., and Reyes, A. (2005), System and method for cmp having multi-pressure zone loading for improved edge and annular zone material removal control, US Patent 6966822B2.
Lu, X., Khonsari, M. M., and Gelinck, E. R. M. (2006), The stribeck curve: Experimental results and theoretical prediction, Journal of Tribology, 128(4), 789-794.
Owczarz, A., Boyd, J., and Kistler, R. (2005), Methods using active retainer rings for improving edge performance in cmp applications, US Patent 6913521B2.
Guthrie, W. L. and Cheng, T. (1998), Method and apparatus for using a retaining ring to control the edge effect, US Patent 5795215.
Kajiwara, J., Moloney, G. S., Wang, H., Hansen, D.A., and Reyes, A. (2005), System and method for cmp having multi-pressure zone loading for improved edge and annular zone material removal control, US Patent 6966822B2.
Lu, X., Khonsari, M. M., and Gelinck, E. R. M. (2006), The stribeck curve: Experimental results and theoretical prediction, Journal of Tribology, 128(4), 789-794.
Owczarz, A., Boyd, J., and Kistler, R. (2005), Methods using active retainer rings for improving edge performance in cmp applications, US Patent 6913521B2.
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