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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제18권 제2호
발행연도
2009.3
수록면
97 - 101 (5page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2009

Plasma를 이용한 세정액의 활성화와 시료 표면의 탄성계수 및 강도 변화에 대한 연구
김수인 ,  김현우 ,  노성철 외 4명 Applied Science and Convergence Technology 2009.03 학술저널
Plasma를 이용한 세정액의 활성화와 시료 표면의 탄성계수 및 강도 변화에 대한 연구
김수인 ,  김현우 ,  노성철 외 4명 한국진공학회 학술발표회초록집 2009.02 학술대회자료

초록· 키워드

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현대의 반도체 산업에서 공정 중 가장 큰 비중을 차지하며, 가장 많은 자본과 인력을 소비하는 것이 바로 세정 공정이다. 세정공정은 소자의 작동에 영향을 미치고 기능을 저하시킬 수 있는 이물질 입자들을 제거하는 것이다. 특히 소자를 식각하기 위한 Photoresist(PR) 과정이 끝날 때마다 항상 세정 과정이 포함되어야 했다. 또한, Photoresist(PR) 공정 중 생성된 HDI-PR(high dose implanted photoresist)은 세정 과정에서 제거가 힘들기 때문에 현대의 고밀도 집적회로 세정 공정에서는 건식 세정과 습식 세정을 혼용하여 여러 단계의 세정 공정을 거치게 된다. 이 논문에서는 기존 플라즈마 방식으로 대표되는 건식 세정과 약액으로 대표되는 습식 세정을 동시에 사용하는 방식을 사용하여 약액활성화 방법(Plasma Liquid-Vapor Activation; PLVA)을 제안하여 실험을 실시하였고 HDI-PR을 활성화된 용액에 담근 후 Nano-indenter를 이용하여 표면강도와 탄성계수를 측정했다. Nano-indenter는 특정한 기하학적 형태를 가지는 Tip을 표면에 압입한 후 압입하중과 압입깊이를 측정함으로서 시료의 표면강도와 탄성계수를 측정하였다. 그 결과 plasma로 활성화된 PR stripper 용액으로 strip한 후의 시료의 표면 강도가 크게 줄어든 것을 확인하였다. 이는 이후 물리적 표면 세정 공정을 후 공정으로 사용한다면 보다 효율적인 HDI-PR을 제거할 수 있을 것으로 사료된다.
#HDI-PR strip #약액 활성화 #Nano-indenter #Plasma liquid-vapor activation(PLVA) #Nano-indenter system

목차

Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험
Ⅲ. 결과 및 고찰
Ⅳ. 결론
감사의 글
참고문헌

참고문헌 (5)

참고문헌 신청
1. [학술지(정기간행물)] - 김수인 / 2008 / 플라즈마 약액 활성화 방법을 이용한 Photoresist strip 가속화 연구 / 한국진공학회지 17 (2) : 113 ~ 116 dbpia 2. [학술지(정기간행물)] - 김수인 / 2008 / PLVA 방법을 활용한 PR stripper의 성능 향상과 HDI-PR 표면의 내력 변화 연구 / 한국진공학회지 17 (6) : 544 ~ 548 dbpia 3. [학술대회논문] - 김재현 / 2005 / / 대한기계학회 춘계학술대회 : 60 ~ google schola 4. [학술지(정기간행물)] - 김봉섭 / 2002 / / 신소재 연구 14 : 83 ~ google schola 5. [학술대회논문] - 고성현 / 2004 / / 대한기계학회 춘계학술대회 : 144 ~ google schola

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