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논문 기본 정보

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저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제9권 제2호
발행연도
2000.5
수록면
144 - 149 (6page)

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Cu (4.5 at. % Mg) target을 이용하여 sputtering에 의해 증착된 Cu(Mg) alloy 박막의 열처리시 형성되는 산화 방지막 MgO의 박막 특성에 영향을 주는 인자에 대해 살펴보았다. MgO 박막의 산화방지 능력 및 막질에 영향을 주는 인자로는 열처리 온도, O₂ 압력, Mg 농도 등으로 나타났다. MgO 박막의 두께는 열처리 온도가 증가함에 따라 증가하다 500℃ 이상에서는 150 Å 정도의 성장한계두께를 나타내었다. 표면에 형성되는 MgO 박막은 O₂ 압력이 낮을수록, Mg의 농도가 높을수록 치밀한 MgO가 형성되어 산화방지에 우수한 특성을 보였으며 전 열처리 과정인 진공 열처리 공정은 lat.% 정도의 낮은 Mg 농도에서도 치밀한 MgO 형성에 매우 효과적임이 확인되었다. 본 연구에서 Cu(Mg) alloy 박막의 열처리를 통해 낮은 저항의 Cu박막의 형성과 동시에 산화방지에 우수한 특성을 보이는 MgO 박막을 열처리 온도, O₂ 압력, Mg 농도등의 최적조건을 이용하여 얻어질 수 있음을 확인하였다.

목차

요약

Abstract

1. 서론

2. 실험방법

3. 결과

4. 결론

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