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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제6권 제4호
발행연도
1997.11
수록면
343 - 347 (5page)

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전기적 고립(isolation) 효과를 알아보기 위해 p^+-InGaAs층에 oxygen을 이온 주입하여 annealing 온도에 따른 compensation mechanism을 조사하였다. 500℃이하에서는 전도도가 손상에 관련된 트랩들에 의해 지배되며 500~600℃ 영역에서는 oxygen의 활성화로 acceptor를 compensate시키는 화학적 효과를 나타냈으며 특히 600℃에서 type conversion(p→n-type)이 일어났다. 이는 annealing 온도가 증가함에 따라 oxygen의 화학적 작용에 의해 생성된 donor로 작용하는 결함들의 증가에 기인하며, 이때 면 저항의 활성화 에너지는 24.2 meV로 shallow donor로 작용하는 In interstitial과 같은 native defect들이 형성되기 때문이라 생각된다. Type conversion이 일어난 600℃ 이상의 영역에서는 이온 주입에 의해 형성된 interstitial Be의 재활성화로 인해 n형 전도도가 감소하는 경향을 보였다.

목차

요약

Abstract

1. 서론

2. 실험

3. 특성 분석 및 토의

4. 결론

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