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논문 기본 정보

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저널정보
한국진공학회(ASCT) Journal of Korean Vacuum Science & Technology Journal of Korean Vacuum Science & Technology Vol.3 No.1
발행연도
1999.4
수록면
49 - 53 (5page)

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We have studied the field emission characteristics of diamond-like-carbon (DLC) films deposited by a layer-by-layer technique using plasma enhanced chemical vapor deposition, in which the deposition of a thin layer of DLC and a CF₄ plasma exposure on its surface were carried out alternatively. The hydrogen-free DLC can be deposited by CF₄ plasma exposure for 140 sec on a 5 ㎚ DLC layer. N₂ gas-phase doping in the CH₄ plasma was also carried out to reduce the work function of the DLC. The optimum [N₂]/[CH₄] flow rate ratio was found to be 9% for the efficient electron emission, at which the onset-field was 7.2 V/㎛. It was found that the hydrogen-free DLC has a stable electron emitting property.

목차

Abstract

Ⅰ. Introduction

Ⅱ. Experiment

Ⅲ. Results and Discussion

Ⅳ. Conclusion

Acknowledgment

Reference

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