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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제6권 제1호
발행연도
1997.2
수록면
77 - 84 (8page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

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DC Magnetron Sputtering 방법으로 원기둥형 Alumina기판 (직경 4 ㎜, 길이 11 ㎜) 상에 부(-)의 TCR특성의 TaN_(0.1)(부도체)와 정(+)의 TCR특성의 Cr(금속) 박막두께를 적절히 조절하므로써 초정밀 저항기를 제조하였다. 그리고 면저항 (Rs)을 1㏀/수준으로 높이고 보호막을 형성키 위하여 상부에 Ta₂O_5 막을 입혀 Ta₂O_5/TaN_(0.1)/Cr/Al₂O₃(substrate)의 다층 박막저항체를 제조하였다. 적절한 조건(기판온도, N₂(g), Ar(g)의 유속 등)으로 상기 다층박막내 각 막의 두께를 약 10,100과 500 ㎚ 두께로 증착했을 때, Rs? 1㏀/□와 TCR?20±5 ppm/C의 초정밀 저항체가 제조되었다.

목차

요약

Abstract

1. 서론

2. 연구방법 및 이론

3. 실험 결과 및 고찰

4. 결론

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