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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
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저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제5권 제2호
발행연도
1996.6
수록면
139 - 146 (8page)

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rf 마그네트론 스파터링법을 이용하여 투명 전도성 Sb-doped SnO₂ 박막을 증착하였으나 박막표면에서 막손상현상이 발생하였다. 특히 기판 중심부 및 타게트의 부식부위에 대응하는 부분에서 발생된 막손상을 방지하고자, 환원형의 마스크 유리가 타게트표면에서 1.5 ㎝지점에 설치되었다. 또한 마그네트론 스파터링의 작동조건인 rf 전력, 스파터링 가스압력 및 기판온도을 최적으로 조절하면서 박막의 균일성과 전기적 특성을 평가하였다. 작동조건을 이용한 실험결과에서 균일하고 막손상이 없는 박막을 증착하는 최적온도는 압력 변화에 따라 변하며, 비율은 50W의 rf 전력에서 5 mTorr당 약 100℃정도였다. 유사하게 rf전력의 증가에 대한 보상에서 최적온도는 적절한 비율로 내려간다.

목차

요약

Abstract

1. 서론

2. 실험방법

3. 결과 및 고찰

4. 결론

Reference

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