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논문 기본 정보

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저널정보
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제28권 제1호
발행연도
2015.1
수록면
7 - 11 (5page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2015

Si3N4/SnZnO/AZO/Ag/Ti/ITO 다층 박막의적층 횟수에 따른 광학적 특성
이상윤 ,  장건익 전기전자재료학회논문지 2015.01 학술저널

2014

Si₃N₄/SnZnO/AZO/Ag/Ti/ITO 다층박막의 설계 및 제조
이상윤 재료공학과 2014.01 학위논문

초록· 키워드

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Si3N4/SnZnO/AZO/Ag/Ti/ITO 다층막을 유리기판 위에 DC/RF magnetron sputtering 방식에 의해 제조하였다. Ag와 ITO 중간에 층간 산화에 의한 광 특성 저하를 방지하기 위하여 Ti 버퍼층을 삽입하였다. Si3N4/SnZnO/AZO/Ag/Ti/ITO 적층 횟수를 달리하며 광 특성을 체계적으로 연구하였다. 먼저 EMP시뮬레이션에 실시하여 광 특성을 사전 설계 후 실험 결과와 비교하고자 하였다. 첫 번째 적층한 Si3N4/SnZnO/AZO/Ag/Ti/ITO 다층막은 투과율이 90% 이상이 나왔지만 적층 횟수를 증가할수록 투과율은 나빠졌다. Ti막은 산화막으로 긍정적인 효과를 주지만 광학 특성에는 나쁜 영향을 미치는 것으로 나타났다.
#Transparent conductive oxide #Magnetron sputtering #Multi-layer #Transmittance

목차

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참고문헌 (7)

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A. D. Acharya / 2014 / / Superlattice. Microst. 67 : 97 ~ google schola E.J.J. Martin / 2004 / / Thin Solid Films 461 : 309 ~ google schola J. A. Rodriguez / 2010 / / Surf. Sci. 604 : 241 ~ google schola J. C. Bernede / 2013 / / Mater. Lett. 112 : 187 ~ google schola L. Cattin / 1999 / / Thin Solid Films 518 : 4560 ~ google schola

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