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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2010.1
- 수록면
- 10 - 13 (4page)
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The plasma processing technologies of thin film deposition and surface treatment technique have been applied to many industrial fields. This study is purposed Large-area uniformity and surface treatment on the stainless substrate. We treat surface of stainless by CF4 plasma. CF4 plasma is generated by using SPM(Scanning plasma method)which is kind a of CVD. Generally, SPM has been used for uniform surface treatment using a crossed electromagnetic field. The optimum discharge condition has been studied for the gas pressure, the magnetic flux density and the distance between substrate and electrodes. In result, contact angle is increased by surface treatment using CF4 plasma. Therefore we expect that SPM to control contact angle is applied to many industries.
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G. Kalita / 2008 / Fluorine incorphrated amorphous carbon thin films prepared by surface wave microwave plasma CVD / Diamond ＆ Related Materials, 17 (7) : 1697 ~
H. Fujiyama / 1998 / Ceramics inner coating of narrow tubes by a coaxial magnetron pulsed plasma / Surface and Coatings Technology 98 (1-3) : 1467 ~
J. Gielen / 1995 / Depositon of amorphous carbon layers from C2H2 and CF4 with an expanding thermal arc plasma beam set-up / Thin Solid Films 271 : 56 ~
Y. Maemura / 1998 / Transport of negatively charged particles by E × B drift in silane plasmas / Surface and Coatings Technology 98 (1-3) : 1351 ~
김영수 / 2002 / 플라즈마 이온주입 방법으로 처리된 폴리스티렌의 분자량에 따른 표면 친수성 및 에이징 현상 / 분석과학 15 (3) : 6 ~ 235
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