메뉴 건너뛰기
.. 내서재 .. 알림
소속 기관/학교 인증
인증하면 논문, 학술자료 등을  무료로 열람할 수 있어요.
한국대학교, 누리자동차, 시립도서관 등 나의 기관을 확인해보세요
(국내 대학 90% 이상 구독 중)
로그인 회원가입 고객센터 ENG
주제분류

추천
검색

논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제18권 제6호
발행연도
2005.1
수록면
499 - 505 (7page)

이용수

표지
📌
연구주제
📖
연구배경
🔬
연구방법
🏆
연구결과
AI에게 요청하기
추천
검색

초록· 키워드

오류제보하기
We compared the effects of a representative aromatic acid amplifier, 2-hydroxy-2'-tosyloxy biphenyl, doped in poly[tert-butyl methacrylate](pTBMA), poly [tetrahydropyranylmethacrylate] (pTHPMA) or poly[tert-butoxycarbonyloxystyrene](pTBOCST) resin film as acid labile polymer in view of thermal stability and photosensitivity enhancement. The acid amplifier was stable up to 60 min in pTBMA and pTBOCST film and up to 10 min in pTHPMA film at 120 ℃. pTBMA and pTHPMA film doped with the acid amplifier showed 9 times and 3 times higher photosensitivity, respectively. But pTBOCST film showed a negligible photosensitivity enhancement. Photosensitivity enhancement and thermal stability of the acid amplifier were found to be affected by the resin.

목차

등록된 정보가 없습니다.

참고문헌 (13)

참고문헌 신청

함께 읽어보면 좋을 논문

논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!

이 논문의 저자 정보

최근 본 자료

전체보기

댓글(0)

0