The changing behavior of the dielectric constant of a-SiC:H  films deposited by remote PECVD with various deposition  conditions using HMDS and PPCS

최두진

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자료유형: 학술저널

저자정보: 최두진

저널정보: 한양대학교 세라믹공정연구센터 Journal of Ceramic Processing Research Journal of Ceramic Processing Research 제11권 제5호

발행연도: 2010.1

수록면: 581 - 585 (5page)

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