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한국분말야금학회 한국분말야금학회지 한국분말야금학회지 제10권 제3호
발행연도
2003.1
수록면
190 - 194 (5page)

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Thin Ag films deposited onto SiO2/Si substrates by DC magnetron sputtering and thereafter annealed at temperatures 100-500℃ are investigated by scanning tunneling and atomic force microscopy. It is shown that the film surface topography and microstructure are considerably changed as a result of annealing. To provide a quantitative estimation of the surface topography changes of Ag films the surface fractal dimension was calculated. Elasticity and hardness of the films are studied by a nanoindentation technique. The films are found to have value of elastic modulus close to that of bulk silver while their hardness and yield stress are essentially higher.

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