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학술저널
저자정보
김홍기 (Pohang University of Science and Technology) 김성준 (Pohang University of Science and Technology) 강민재 (Pohang University of Science and Technology) 조명연 (Kwangwoon University) 오종민 (Kwangwoon University) 구상모 (Kwangwoon University) 이남석 (Pohang University of Science and Technology) 신훈규 (Pohang University of Science and Technology)
저널정보
한국전기전자학회 전기전자학회논문지 전기전자학회논문지 제22권 제4호
발행연도
2018.12
수록면
1,230 - 1,233 (4page)

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에어로졸 데포지션 (aerosol deposition)공정을 통해 Al₂O₃막을 4H-SiC 상에 50 ㎚ 두께로 제조하였고, 후열처리 공정에 따른 전기적 특성을 분석하였다. 그 결과 N2분위기 열처리 시 Al₂O₃와 SiC 계면의 고정전하량이 감소하였으나 산소공공 생성에 의한 누설전류의 증가를 확인하였다. 본 결과로부터 계면특성 향상과 누설전류의 감소를 위해서는 적절한 N₂와 O₂가스의 혼합이 중요함을 확인하였다.

목차

Abstract
요약
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 본론
Ⅲ. 결론
References

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