TiO₂ 박막의 온도에 따른 산소공공의 분포와 전기적인 특성사이의 상관성

오데레사

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자료유형: 학술저널

저자정보: 오데레사 (청주대학교)

저널정보: 한국정보통신학회 한국정보통신학회논문지 한국정보통신학회논문지 제22권 제4호

발행연도: 2018.4

수록면: 664 - 669 (6page)

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본 연구는 투명산화물반도체의 전기적인 특성과 산소공공과의 관계를 알아보기 위해서 TiO₂ 박막을 증착하여 MIM 구조를 만들어서 전압전류 특성을 관찰하였다. 산소공공은 XPS분석으로 이루어졌으며, 커패시턴스를 측정하여 전하의 용량이 많은 곳에서 산소공공이 어떤 영향을 주는가에 대하여도 조사하였다. 열처리를 통하여 결정질구조로 변하는 TiO₂ 박막은 산소공공이 가장 낮은 곳에서 커패시턴스 값이 가장 높았으며, 전하의 양이 많았다. 따라서 전하의 양이 많은 TiO₂박막이 CO₂ 가스에 대하여 가장 잘 민감하게 반응하는 것을 확인하였다.

#티타늄다이옥사이드 #커패시턴스 #산소공공 #쇼키접합 #이산화탄소 #TiO₂ #Capacitance #Oxygen vacancy #Schottky contact #CO₂

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[학술지(정기간행물)] - T. Oh / 2016 / Tunneling Condition at High Schottky Barrier and Ambipolar Transfer Characteristics in Zinc Oxide Semiconductor Thin Film Transistor / Materials Research Bulletin 77 : 1 ~ 7

[학술지(정기간행물)] - X. Ma1 / 2017 / A Sputtered Silicon Oxide Electrolyte for High-Performance Thin-Film Transistors / Scientific Reports 7

[학술지(정기간행물)] - Teresa Oh / 2010 / Comparison between SiOC Thin Films Fabricated by Using Plasma Enhance Chemical Vapor Deposition and SiO2 Thin Films by Using Fourier Transform Infrared Spectroscopy / Journal of the Korean Physical Society 56 (4) : 1150 ~ 1155

[학술지(정기간행물)] - John Robertson / 2015 / High-K materials and metal gates for CMOS applications / Materials Science and Engineering R 88 : 1 ~ 41

[학술지(정기간행물)] - J. C. K. Lam / 2013 / Evidence of ultra-low-k dielectric material degradation and nanostructure alteration of the Cu/ultra-low-k interconnects in time-dependent dielectric breakdown failure / Applied Physics Letter 102 : 022908 ~

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이 논문의 저자 정보

Teresa Oh

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주요연구분야 자연과학 > 물리학 TOP 5% 공학 > 공학 일반

논문수 35 이용수 4,983

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