메뉴 건너뛰기
.. 내서재 .. 알림
소속 기관/학교 인증
인증하면 논문, 학술자료 등을  무료로 열람할 수 있어요.
한국대학교, 누리자동차, 시립도서관 등 나의 기관을 확인해보세요
(국내 대학 90% 이상 구독 중)
로그인 회원가입 고객센터 ENG
주제분류

추천
검색
질문

논문 기본 정보

자료유형
학술대회자료
저자정보
정용호 (아주대학교) 박상철 (아주대학교)
저널정보
한국경영과학회 한국경영과학회 학술대회논문집 한국경영과학회 2016년 춘계공동학술대회 논문집
발행연도
2016.4
수록면
3,660 - 3,664 (5page)

이용수

표지
📌
연구주제
📖
연구배경
🔬
연구방법
🏆
연구결과
AI에게 요청하기
추천
검색
질문

이 논문의 연구 히스토리 (6)

초록· 키워드

오류제보하기
반도체 공정은 대표적인 자본집약적 산업이다. 반도체 공정을 구성하고 있는 서로 다른 성질의 공정들 중에서 포토 공정은 일반적으로 병목 공정으로 간주된다. 포토 공정에서는 매우 섬세한 작업이 수행되기 때문에, 대부분의 반도체 제조업자들은 수율을 향상시키기 위해 dedication 정책을 적용해왔다. Dedication은 각각의 lot이 특정 포토 장비에서만 수행되도록 제약함으로써, 수율을 향상시키는 정책이다. 비록 이러한 정책이 수율을 향상시키니 위해 필요하지만 관리하지 않는다면 포토 장비의 가동률을 떨어뜨려 FAB 성능에 심각한 악영향을 끼칠 수 있다. 본 논문에서는 dedication이 있는 반도체 공정의 납기 만족을 달성하기 위해 machine-specific한 디스패칭 규칙을 제안하고자 한다. 제안하는 디스패칭 규칙의 성능을 검증하기 위해 VMS solutions에서 개발한 SeePlan을 이용하였다. 실험결과는 제안하는 디스패칭 규칙이 기존의 디스패칭 규칙들보다 더 좋은 결과를 도출한다는 것을 보여준다.

목차

Abstract
1. 서론
2. 방법론
3. 실험
4. 결론
참고문헌

참고문헌 (0)

참고문헌 신청

함께 읽어보면 좋을 논문

논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!

이 논문의 저자 정보

이 논문과 함께 이용한 논문

최근 본 자료

전체보기

댓글(0)

0

UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2018-020-000860596