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전자빔을 이용하여 반도체 공정에서 배출되는 NF3 가스 분해 연구를 수행하였다. 본 연구에서 흡수선량은 0에서 400kGy 범위였고, 전류강도는 0~20mA범위였다. 또한, 처리 대상 가스의 농도 범위는 500~2,000ppm이었다. 그리고 조사시간의 영향을 알기 위해서, 조사시간을 각각 5초, 10초, 15초, 20초 등으로 달리 하면서 실험을 수행하였다. 흡수선량 및 전류 강도가 증가할수록 가스의 분해효율은 증가하였다. 하지만 처리 대상가스의 농도가 증가할 때는 분해효율이 감소함을 알 수 있었다. 흡수선량이 약 400kGy일 때 처리가스의 분해효율은 약 90% 정도를 나타내었다.
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1. [학술대회논문] - 이진복 / 2006 / 전기가열방식 스크러버의 NF3 제거효율 / 한국대기환경학회 추계학술대회논문집 : 549 ~ 550
2. [학술지(정기간행물)] - Yang, C. F. / 2009 / Assessment of removal efficiency of perfluorocompounds (PFCs) in a semiconductor fabrication plant by gas chrotography / Chemosphere 76 : 1273 ~ 1277
3. [학위논문] - 강나경 / 2001 / PFC회수를 위한 탄소 분자체막에 대한 실험 및 전산모사에 관한 연구 / 석사 / 공주대학교 대학원
4. [학위논문] - 박광수 / 2011 / SF_6_ gas대체를 위한 NF₃, COF₂ gas의 SiNx 와 a-Si Dry Etch Rate 특성비교 / 석사 / 한국항공대학교 대학원
5. [학술지(정기간행물)] - Niu, X. / 2010 / NF3 decomposition over some metal oxides in the absence of water / J. Natural Gas Chem 19 : 463 ~ 467
2. [학술지(정기간행물)] - Yang, C. F. / 2009 / Assessment of removal efficiency of perfluorocompounds (PFCs) in a semiconductor fabrication plant by gas chrotography / Chemosphere 76 : 1273 ~ 1277
3. [학위논문] - 강나경 / 2001 / PFC회수를 위한 탄소 분자체막에 대한 실험 및 전산모사에 관한 연구 / 석사 / 공주대학교 대학원
4. [학위논문] - 박광수 / 2011 / SF_6_ gas대체를 위한 NF₃, COF₂ gas의 SiNx 와 a-Si Dry Etch Rate 특성비교 / 석사 / 한국항공대학교 대학원
5. [학술지(정기간행물)] - Niu, X. / 2010 / NF3 decomposition over some metal oxides in the absence of water / J. Natural Gas Chem 19 : 463 ~ 467
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