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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2016.1
- 수록면
- 1 - 9 (9page)
- DOI
- 10.14801/jkiit.2016.14.1.1
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고밀도집적회로(VLSI)의 생산량을 극대화시키기 위해서는 노광분야 능력할당의 총작업시간을 최소화시키는 일정관리가 필수적 요인이다. 노광분야 능력할당 문제(CAPPA)의 총작업소요시간 최소화 일정관리 문제는 NP-난제로 알려져 있다. 이 문제에 대해, 기존에는 선형계획법을 적용하는 방법만이 제시되었다. 본 논문은 CAPPA의 총 작업소요시간 최소화 일정관리를 할 수 있는 휴리스틱 알고리즘을 제안하였다. 제안된 방법은 작업처리시간 내림차순의 주문들 순서로 적절한 기계에 배정하는 단순한 방법을 적용하고, 총 작업 소요시간을 감소시키기 위한 최적화 과정을 수행하였다. 제안된 알고리즘을 실제 데이터들에 적용한 결과 기존의 선형계획법 도구에 비해 총 작업 소요시간을 감소시킬 수 있었다.
목차
요약
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 관련연구와 문제점
Ⅲ. 총 작업 소요시간 최소화 알고리즘
Ⅳ. 실험 및 결과 분석
Ⅴ. 결론 및 추후 연구과제
References
참고문헌 (9)
참고문헌 신청
S. H. Chung, C. Y. Huang, and A. H. I. Lee, "Using Constraint Satisfaction Approach to Solve the Capacity Allocation Problem for Photolithography Area", Computational Science and Its Applications, Vol. 3982, pp. 610-620, May 2006.
S. H. Chung, C. Y. Huang, and A. H. I. Lee, "Heuristic Algorithms to Solve the Capacity Allocation Problem in Photolithography Area (CAPPA)", Operational Research Spectrum, Vol. 30, No. 3, pp. 431-452, June 2008.
C. Ozturk, K, E, Kabak, M. A. Ornek, and C. Heavey, "Improved Solution of Capacity Allocation Problem for Photolithography Area (CAPPA) in Semiconductor Manufacturing", http://homes.ieu.edu.tr/ ~cozturk/ISE336/, 2012.
A. Klemmt, J. Lange, G. Weigert, F. Lehmann, and J. Seyfert, "A Multistage Mathematical Programming Based Scheduling Approach for the Photolithography Area in Semiconductor Manufacturing", Proceedings of the 2010 Winter Simulation Conference, pp. 2474-2485, Dec. 2010.
L. B. Toktay and R. Uzsoy, "A Capacity Allocation Problem with Integer Side Constraints", European Journal of Operational Research, Vol. 109, No. 1, pp. 170-182, Aug. 1998.
S. H. Chung, C. Y. Huang, and A. H. I. Lee, "Heuristic Algorithms to Solve the Capacity Allocation Problem in Photolithography Area (CAPPA)", Operational Research Spectrum, Vol. 30, No. 3, pp. 431-452, June 2008.
C. Ozturk, K, E, Kabak, M. A. Ornek, and C. Heavey, "Improved Solution of Capacity Allocation Problem for Photolithography Area (CAPPA) in Semiconductor Manufacturing", http://homes.ieu.edu.tr/ ~cozturk/ISE336/, 2012.
A. Klemmt, J. Lange, G. Weigert, F. Lehmann, and J. Seyfert, "A Multistage Mathematical Programming Based Scheduling Approach for the Photolithography Area in Semiconductor Manufacturing", Proceedings of the 2010 Winter Simulation Conference, pp. 2474-2485, Dec. 2010.
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