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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2013.3
- 수록면
- 107 - 118 (12page)
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본 논문에서는 반도체 식각 공정 모니터링 시스템을 개발한다. 반도체 산업은 첨단 산업 중, 전자제품의 필수 부품을 생산하는 대표적인 고부가가치 산업으로, 세계 각국에서 치열한 개발 경쟁을 벌이고 있다. 이에 따라 반도체 제품의 품질과 특성, 그리고 생산성을 향상하기 위한 많은 연구들이 진행되고 있는데, 공정 모니터링 기술이 이에 해당한다. 실제로 반도체 회로를 형성하는 식각 공정에서의 불량은 큰 피해를 야기 시키므로, 공정을 상세히 모니터링 할 수 있는 시스템의 개발이 필요하다. 본 논문에서 기술하는 반도체 식각 공정 모니터링 시스템은 플라즈마를 이용한 건식식각 공정을 상세하게 관찰 분석하여 관리자에게 피드백하고, 설정된 시나리오에 맞게 자동으로 공정을 제어하여 공정 자동화 효율을 극대화한다. 실시간으로 모니터링을 수행하고 그 결과를 즉각적으로 시스템에 반영한다. 관리자는 시스템에서 제공하는UI(User Interface)를 통해 공정의 현재 상태를 진단할 수 있다. 시스템은 관리자가 사전에 작성한 공정 시나리오를 따라 공정을 자동으로 제어하고, 공정중단 시점을 효율적으로 찾아내어 생산 효율을 높인다.
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1. [학술지(정기간행물)] - S. Limanond / 1998 / Monitoring and control of semiconductor manufacturing processes / IEEE Control Systems 18 : 46 ~ 58
2. [학술지(정기간행물)] - M. Mozetic / 2008 / Interaction of Oxygen Plasma with Aluminum Substrates / IEEE Transactions on Plasma Science 36 (4) : 868 ~ 869
3. [학술지(정기간행물)] - Z. Navratil / 2006 / A software for optical emission spectroscopy – problem formulation and application to plasma diagnostics / Czech. J. Physics 56
4. [학술지(정기간행물)] - Z. Navratil / 2006 / A software for optical emission spectroscopy – problem formulation and application to plasma diagnostics / Czech. J. Physics 56
5. [학위논문] - R. Chen / / OES-based Sensing for Plasma Processing in IC Manufacturing / 박사 / University of California at Berkeley
2. [학술지(정기간행물)] - M. Mozetic / 2008 / Interaction of Oxygen Plasma with Aluminum Substrates / IEEE Transactions on Plasma Science 36 (4) : 868 ~ 869
3. [학술지(정기간행물)] - Z. Navratil / 2006 / A software for optical emission spectroscopy – problem formulation and application to plasma diagnostics / Czech. J. Physics 56
4. [학술지(정기간행물)] - Z. Navratil / 2006 / A software for optical emission spectroscopy – problem formulation and application to plasma diagnostics / Czech. J. Physics 56
5. [학위논문] - R. Chen / / OES-based Sensing for Plasma Processing in IC Manufacturing / 박사 / University of California at Berkeley
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