CMOS SCALING AND GATE STACK TECHNOLOGY PROGRESS

최리노

한국재료학회 학술발표대회

2008 .01

이중 일함수 게이트 구조를 갖는 CMOS 소자의 전기적 특성

나기열 ,  신윤수 ,  김영식 외 4명

대한전자공학회 학술대회

2006 .11

In-Situ Boron Doped Polysilicon Gate를 적용한 Dual-Gate CMOS Device의 특성

이종호 ,  주석호 ,  구본제 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1995 .01

누설전력소비만을 갖는 CMOS 전달게이트 회로

박대진 ,  정강민

대한전자공학회 학술대회

2008 .06

다중 Gate 및 Channel 구조를 갖는 CMOS 영상 센서용 Floating-Gate MOSFET 소자의 제작 및 특성 평가

朱炳權 ,  申璟湜 ,  李泳錫 외 3명

전기학회논문지 C

2001 .01

COUNTER DOPING PROCESS OF P+ GATE FOR A SUB-HALF MICRON DUAL GATE CMOS DEVICE

S. H. Baek ,  J. I. Lee ,  K. S. Kim 외 6명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

CMOS Gate Array의 개발 ( Development of a CMOS Date Array )

장영조 ,  이철동

대한전자공학회 학술대회

1985 .01

Co-interlayer와 TiN capping을 적용한 니켈실리사이드 의 0.1㎛ CMOS 소자 특성연구

오순영 ,  지희환 ,  배미숙 외 6명

대한전자공학회 학술대회

2003 .07

실리콘 액정표시 장치 시스템을 위한 0.5㎛ 이중 게이트 고전압 CMOS 공정 연구

송한정

전기전자재료학회논문지

2002 .01

Intrinsic Polysilicon을 이용한 CMOS 소자 Gate의 특성에 관한 연구 ( A Study on the CMOS Device Characteristics having Intrinsic Polysilicon Gate )

김기홍 ,  안철 ,  박영준

전자공학회논문지-A

1991 .04

실리콘 게이트 CMOS 의 제조 및 측정(Ⅱ)

유종선 ,  감광수 ,  김보우

대한전자공학회 학술대회

1983 .11

실리콘 게이트 CMOS 의 제조 및 측정(Ⅰ)

류인식 ,  김원열 ,  백규하 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1983 .11

N-rich TiN Capping Layer을 이용한 20nm Gate-Last High-k/Metal Gate MOSFETs의 신뢰성 향상

배기단 ,  이경택 ,  사공현철 외 5명

대한전자공학회 학술대회

2013 .07

Ti/TiN/Ti buffer layer/TiN 구조를 갖는 TiN 박막의 충격마모특성에 관한 연구

김광석 ,  김범석 ,  이상율

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2001 .11

TiN 에 대한 W의 부착특성에 관한 연구(l)

이종무 ,  권난영 ,  손재현 외 1명

한국재료학회지

1993 .01

Gate Overlap에 따른 나노선 CMOS Inverter 특성 연구

유제욱 ,  김윤중 ,  임두혁 외 1명

전기학회논문지

2017 .10

CMOS Gate Array의 Global Routing Algorithm ( Global Routing Algorithm for CMOS Gate Array )

최성우 ,  이건배 ,  정정화

대한전자공학회 학술대회

1984 .01

CMOS 게이트의 지연시간 예측 모델 ( CMOS Gate Delay Modeling Using Spice )

김종현 ,  조원일 ,  김동욱

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

Device Design and parameters extraction of T-Grooved Gate CMOS Operating in Low Voltage

홍재희 ,  진태 ,  윤혁수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

0.5㎛ 이하의 CMOS 기술을 위한 공정 및 소자 설계에 관하여 (On the Process and Device Design for Sub-0.5㎛ CMOS Technology )

오춘식

대한전자공학회 학술대회

1989 .01