지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 1994.1
- 수록면
- 125 - 126 (2page)
이용수
초록· 키워드
오류제보하기
등록된 정보가 없습니다.
목차
등록된 정보가 없습니다.
참고문헌 (0)
참고문헌 신청함께 읽어보면 좋을 논문
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
-
축적된 Ge층이 Si₁-ₓGeₓ/Si의 산화막 성장에 미치는 영향
대한전자공학회 학술대회
1998 .06
-
PAE에 의한 GaAs / Ge / Si구조를 의한 Si기판위의 Ge 결정성장 ( Ge crystal growth on Si substrate for GaAs / Ge / Si structure by Plasma Assisted Epitaxy )
대한전자공학회 학술대회
1989 .07
-
GaAs/Ge/Si 구조를 위하여 PAE법을 이용한 Si 기판위에 Ge 결정성장 ( Ge Crystal Growth on Si Substrate for GaAs/Ge/Si Structure by Plasma-Asisted Epitaxy )
전자공학회논문지
1989 .11
-
$SiO_2$ 위에 LP-CVD로 증착한 비정질 $Si/Si_{0.69}Ge_{0.31}, Si_{0.69}Ge_{0.31}Si$ 및 Si의 결정화 거동
한국재료학회 학술발표대회
1995 .01
-
Prevention of degradation in poly $Si_{1-x}Ge_x$/high K structure by controlling Ge content in poly $Si_{1-x}Ge_x$ films
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2002 .01
-
산화막 형성과 열처리를 이용한 $Si_{0.77}Ge_{0.23}$ 박막의 격자 이완
한국재료학회 학술발표대회
2004 .01
-
Si1-xGex/Si에피택셜층의 건식산화동안 Ge 재분포
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
-
Si₁ₓ-Geₓ/Si 구조에서의 Hall 이동도
대한전자공학회 학술대회
1998 .06
-
Si와 Ge의 초정밀 절삭특성
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2000 .05
-
축적된 Ge층이 Si1-xGex / Si의 산화막 성장에 미치는 영향 ( The Effects of Piled up Ge-rich Layer on the Oxide Growth of Si1-xGex / Si Epitaxial Layer )
대한전자공학회 학술대회
1998 .07
-
플라즈마를 이용한 Si 기판위에 Ge 결정성장 ( Plasma-assisted epitaxial growth of Ge layer on Si ( 100 ) in H2 Plasma )
대한전자공학회 학술대회
1988 .11
-
Si / Si0.8 Ge0.2 / Si 양자우물구조에서의 정공특성 분석
대한전자공학회 학술대회
1995 .01
-
Role of a Surfactant in Ge / Si Growth
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
-
Formation and Properties of Mg-Cu-(Si, Ge) Amorphous Alloys
한국주조공학회지 (주조)
1997 .01
-
Suppression of 3D Island formation in Ge / Si
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
-
Surface Treatment of Ge Grown Epitaxially on Si by Ex-Situ Annealing for Optical Computing by Ge Technology
IEIE Transactions on Smart Processing & Computing
2014 .10
-
Si 기판에서의 광소자 응용을 위한 Ge 박막의 Transfer 기술개발
대한전자공학회 학술대회
2003 .07
-
Ge-Si-Te 기억소자의 온도 및 주파수영향
전기의세계
1975 .09
-
Sil-xGex / Si 에피택셜층의 건식산화동안 Ge 재분포 ( The Ge Redistribution During Dry Oxidation of Si1-xGex / Si Epitaxial Layer )
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
이 논문의 저자 정보
최근 본 자료
댓글(0)
0