직류 마그네트론 스핏트링으로 제조한 크로미움 포토 마스크 특성조사

남기수 ,  박신종

대한전자공학회 학술대회

1985 .06

자체 검사를 이용한 포토마스크 결점 추출

최지희 ,  정홍

대한전자공학회 학술대회

2008 .06

자체 검사를 이용한 포토마스크 결점 추출

최지희 ,  정홍

대한전자공학회 학술대회

2008 .06

마그네트론 스퍼터링 기술의 개발 동향

남경훈 ,  한전건

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2004 .11

직류 마그네트론 시스템에서 방전 및 스파터링 특성

곽영순 ,  조정수 ,  박정후 외 2명

대한전기학회 학술대회 논문집

1990 .11

광리소그래피에서 최적 모양의 패턴 구현을 위한 포토마스크 역설계 ( Reverse Design of Photomask for Optimum Fidelity in Optical Lithography )

오용호 ,  임성우 ,  이재철

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

광리소그래피에서 최적 모양의 패턴 구현을 위한 포토마스크 역설계

오용호 ,  이재철 ,  임성우

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

광리소그래피에서 최적 모양의 패턴 구현을 위한 포토마스크 역설계 ( Reverse Design of Photomask for Optimum Fidelity in Optical Lithography )

이재철 ,  오용호 ,  임성우

전자공학회논문지-D

1997 .12

Process Technology for Next Generation Photomask

Jong Min Sohn ,  Sung Woon Choi ,  Byung Gook Kim 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Challenges for Next Generation Photomask

Hi ,  oaki Mo ,  imoto 외 1명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

몬테-칼로 기법을 사용한 포토마스크의 결상 왜곡 보정

이재철 ,  오용호 ,  임성우

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

몬테-칼로 기법을 사용한 포토마스크의 결상 왜곡 보정 ( Optical Proximity Correction of Photomask with a Monte-Carlo Method )

이재철 ,  오용호 ,  임성우

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

포토마스크 생산공정 FAB의 진동제어 설계 및 시공기술

강정호 ,  하동준 ,  조광수 외 2명

대한건축학회 학술발표대회 논문집 - 구조계

2006 .10

Fabrication of nano photomask by aluminum anodization

Jeonghyeon Yang ,  Sangdoo Yoon ,  Yeonjae Kim 외 3명

대한기계학회 춘추학술대회

2019 .05

포토마스크 공정의 Plasma Etching 시 발생하는 Alumina Particle 개선

정유석 ,  박환욱 ,  정준화 외 4명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2014 .05

마그네트론 스퍼터링법을 이용한 Zn 나노 구조 제어

이원지 ,  윤성호 ,  김안나 외 3명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2018 .06

반응성 마그네트론 스퍼터링법에 의해 증착된 WO₃ 박막의 일렉트로크로믹 특성

이기오 ,  최영규 ,  정귀상

대한전기학회 학술대회 논문집

1998 .07

용량 결합형 마그네트론 스퍼터링 장치의 방전 특성

박명하 ,  곽둥주

대한전기학회 학술대회 논문집

1999 .07

자기장 분포 제어에 의한 마그네트론 스퍼터링 증착 특성 연구

김현수 ,  김일영 ,  민상홍 외 2명

대한전기학회 학술대회 논문집

2011 .07

DC Magnetron Sputtering에 의해 증착된 알루미늄 박막의 특성

표재확 ,  연충규 ,  황기웅

대한전기학회 학술대회 논문집

1993 .11