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A Novel 193 nm Photoresist Containing Silicon Compound
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2001 .04
Photoresist Technology
대한전자공학회 워크샵
1989 .01
new Class of Cholate-based Dissolution Inhibitor with High Etch Resistance
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2001 .10
A Novel Positive Photoresists Based on Silicon-containing Methacrylate for 193 nm Lithography
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2000 .10
Synthesis of Methacrylate Polymers Substituted with Cholate Derivatives with Polar Spacer and Its Lithographic Application
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2001 .10
Photolithography Process of Organic Thin Film with A New Water Soluble Photoresist
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2004 .01
Sodium Cholate 를 유화제로 사용한 MMA 의 유화중합
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1989 .04
High Resolution Bilayer Resists Using Blends of Photoresists and Silicon-Containing Materials
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2011 .04
Advanced Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1999 .10
Negative Photoresist from Acrylic Rosin Derivatives
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1998 .10
정보기능용 고분자 ( Photoresist )
고분자 과학과 기술
1990 .11
PR(Photoresist) 분사량 측정에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
2008 .06
Photoresists for Interface and Thin Layer Imaging Processes
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2011 .04
Butyl 고무에 관(關)하여
Elastomers and composites
1968 .01
Negative Thick Photoresist를 이용한 100㎛ 높이의 금속 구조물의 제작에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1998 .07
Adhesion-promoted copolymers based on copolymers of norbornene derivatives and maleic anhydride for 193-nm photoresist
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1999 .10
Study of interfacial roughness in EUV photoresist from a molecular approach
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2018 .04
Effects of Fluorine for Photoresist Properties
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2002 .10
Advanced Chemically Amplified Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2000 .04
Chemically Amplified photoresists for 248 nm based on derivated phenolic resins
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1999 .10
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