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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2007.6
- 수록면
- 309 - 312 (4page)
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Sputter deposition followed by surface treatment was studied using reactive RF plasma as a method for preparing titanium oxide(TiO₂) films on indium tin oxide(ITO) coated glass substrate for dye-sensitized solar cells(DSSCs). Anatase structure TiO₂ films deposited by reactive RF magnetron sputtering under the conditions of Ar/O₂(5%) mixtures, RF power of 600W and substrate temperature of 400?C were surface-treated by inductive coupled plasma(ICP) with Ar/O₂ mixtures at substrate temperature of 400?C, and thus the films were applied to the DSSCs, The TiO₂ Films made on these exhibited the BET specific surface area of 95, the pore volume of 0.3cm² and the TEM particle size of {sim}25 nm. The DSSCs made of this TiO₂ material exhibited an energy conversion efficiency of about 2.25% at 100mW/cm² light intensity.
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