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한국신재생에너지학회 한국신·재생에너지학회 학술대회 초록집 한국신재생에너지학회 2006년도 춘계학술대회
발행연도
2006.6
수록면
187 - 191 (5page)

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Sputter deposition followed by surface treatment was studied using reactive RF plasma as a method for preparing titanium oxide (TiO₂) films on the FTO (SnO₂: F) substrate for dye-sensitized solar cells (DSCs). Anatase structure TiO₂ films deposited by reactive RF magnetron sputtering under the conditions of Ar/O₂(5%) mixtures, RF power of 600W and substrate temperature of 400?C were surface-treated by inductive coupled plasma (ICP) with Ar/O₂ mixtures at substrate temperature of 400?C, and thus the films were applied to the DSCs. We have chosen a solar cell width as a variable of a large-scaled DSCs and confirmed electric characteristics of an individual cell. As a result, the higher the internal resistance of DSC becomes, the wider the width gets. Internal resistance makes it difficult to collect photoelectron generated from dye. Ultimately up sizing DSC causes the increase of internal resistance and then has a bad effect on the cell characteristics.
#스퍼터링 증착 #RF 프라즈마 #염료 감응형 태양전지 #셀폭 #내부저항 #sputter deposition #RF plasma #Dye-sensitized solar cell #cell width #internal resistance

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