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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
한재윤 (경기대학교) 주새롬 (경기대학교) 이준형 (경기대학교) 박동건 (한국 유미코아) 김동원 (경기대학교)
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제46권 제6호
발행연도
2013.12
수록면
248 - 257 (10page)

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2015

팔라듐계 합금 수소분리막의 미세구조에 따른 수소 투과-선택 특성에 관한 연구
한재윤 신소재공 2015.01 학위논문

2014

고 수소 투과·선택도를 갖는 팔라듐-구리 합금 수소분리막에 관한 연구
한재윤 ,  김동원 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2014.05 학술대회자료

2013

스퍼터 공정변수가 팔라듐 합금 수소분리막의 특성에 미치는 영향
한재윤 ,  주새롬 ,  이준형 외 2명 한국표면공학회지 2013.12 학술저널

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It is generally recognized that thin Pd-Cu alloy films fabricated by sputtering show a wide range of microstructures and properties, both of which are highly dependent on the sputtering conditions. In view of this, the present study aims to investigate the relationship between the performance of hydrogen separation membranes and the microstructure of Pd alloy films depending on sputtering deposition conditions such as substrate temperature, working pressure, and DC power. We fabricated thin and dense Pd-Cu alloy membranes by the micro-polishing of porous Ni support, an advanced Pd-Cu sputtered multi-deposition under the conditions of high substrate temperature / low working pressure / high DC power, and a followed by Cu-reflow heattreatment. The result of a hydrogen permeation test indicated that the selectivity for H₂/N₂ was infinite because of the void-free and dense surface of the Pd alloy membranes, and the hydrogen permeability was 10.5 ml·cm-2<SUP></SUP>·min<SUP>-1</SUP>·atm<SUP>-1</SUP> for a 6 μm membrane thickness.
#Pd alloy hydrogen membrane #Sputtering deposition #Sputtering variables #Dense structure #Hydrogen perm-selectivity

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
References

참고문헌 (23)

참고문헌 신청
1. [학술지(정기간행물)] - S. Uemiya / 1990 / / Appl. Catal 67 : 223 ~ google schola 2. [학술지(정기간행물)] - J. C. Amphlett / 1994 / / Int. J. Hydrogen Energy 19 : 131 ~ google schola 3. [학술지(정기간행물)] - K. A. Petersen / 1998 / Membrane Reforming for Hydrogen / Catal. Today 46 : 193 ~ google schola 4. [학술지(정기간행물)] - Y. S. Cheng / 1999 / / J. Membr. Sci 158 : 127 ~ google schola 5. [학술지(정기간행물)] - O. Hatlevik / 2010 / / Sep. Purif. Technol 73 : 59 ~ google schola

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