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저자정보
추대혁 (Incheon National University) 유성환 (Incheon National University) 김준석 (Incheon National University) 한기준 (Power-Soft Inc.)
저널정보
전력전자학회 전력전자학회논문지 전력전자학회 논문지 제18권 제6호
발행연도
2013.12
수록면
593 - 600 (8page)

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The asymmetric pulsed DC reactive magnetron sputtering system is widely used for the high quality plasma sputtering process such as a thin film deposition. In asymmetric pulsed DC power supply a reverse voltage is applied to the target periodically to minimize arc discharging effect. When sputtering in the mid-frequency range (20-350 kHz), the periodic target voltage reversals suppress arc formation at the target and provide long-term process stability. Thus, high quality, defect-free coatings of these materials can now be deposited at competitive rates. In this paper, a new style asymmetric pulsed DC power supply including mid-transformer is presented. In the proposed, an energy recovery circuit is adopted to reduce the mutual inductance of the transformer. As a result, the system dynamics of the voltage control loop is increased highly and the non-linear voltage boosting effect of the conventional system is removed. This work was proved through simulation and laboratory based experimental study.
#plasma power supply #magnetron sputtering #asymmetric pulsed DC

목차

Abstract
1. 서론
2. 기존 비대칭 펄스형 DC전원장치
3. 제안된 비대칭 펄스형 DC전원장치
4. 실험 결과 및 검토
5. 결론
References

참고문헌 (7)

참고문헌 신청
1. [학술지(정기간행물)] - Y. S. Kim / 2000 / Atomic Layer Chemical Vapor Deposition of TiN Thin Films on Si(100)and Si(111) / Journal of the Korea Physics Society 37 (6) : 1045 ~ 1050 google schola 2. [학술지(정기간행물)] - 한만근 / 2011 / 비대칭 펄스 DC 반응성 마그네트론 스퍼터링으로 증착된 나노결정질 TiN 박막의 성장거동 / 한국세라믹학회지 48 (5) : 342 ~ 347 google schola 3. [학술지(정기간행물)] - C. Corbella / 2009 / Plasma Parameters of Pulsed-dc discharges in methane used to deposit diamondlike carbon films / Journal of Applied Physics 106 : 03302 ~ google schola 4. [기타자료] - Jeff C. Sellers / 1998 / Etch Process Employing Asymmetric Bipolar Pulsed DC / U.S. Patent, 5,770,023 google schola 5. [기타자료] - Geoffrey N. Drummond / 1998 / Enhavced Rractive DC Sputtering System / U.S. Patent, 5,718,813 google schola

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