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이용수
요약
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 소자 제작 및 측정
Ⅲ. 결과 및 고찰
Ⅳ. 결론
참고문헌
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
고속용 p-MOSFET에서 NBTI 스트레스에 의한 GIDL 전류의 특성 분석
한국정보통신학회논문지
2009 .02
고속용 p-MOS 트랜지스터에서 NBTI 스트레스에 의한 특성 인자의 열화 분석
한국통신학회논문지
2010 .01
p-MOSFET에서 동작상태 스트레스에 따른 게이트에 유기된 드레인 누설(GIDL) 전류의 효과
대한전자공학회 학술대회
1994 .07
p-MOSFET에서 동작상태 스트레스에 따른 게이트에 유기된 드레인 누설 ( GIDL ) 전류의 효과 ( The Effect of Gate-Induced Drain Leakage ( GIDL ) Current with On-state stress in p-MOSFETs )
대한전자공학회 학술대회
1994 .07
산화막 변화에 의한 p-MOSFET에서 게이트에 유기된 드레인 누설 ( GIDL ) 전류 ( GIDL Current Effects in p-MOSFET's by gate oxide variation )
대한전자공학회 학술대회
1994 .01
Reliability Characteristics by the NBTI stress in Ultra-thin Gate p-MOSFET
INTERNATIONAL CONFERENCE ON FUTURE INFORMATION & COMMUNICATION ENGINEERING
2009 .06
Instability in GIDL Current of Thermally-Nitrided-Oxide N-MOSFET's
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1991 .01
Planar MOSFET에서 측정을 통한 순수한 Gate Induced Drain Leakage (GIDL) 추출 방법
대한전자공학회 학술대회
2015 .06
Quantum Simulation을 이용한 Silicon Channel 두께와 Doping이 Double Gate MOSFET 소자의 GIDL 특성에 미치는 영향 분석
대한전자공학회 학술대회
2010 .06
MOSFET I-V 그래프에서 단일트랩이 GIDL current에 미치는 영향분석
대한전자공학회 학술대회
2015 .06
초기 미세조직에 따른 NbTi 초전도 선재의 임계전류밀도 분석
한국소성가공학회 학술대회 논문집
2019 .10
Quantum Simulation을 이용한 Silicon Channel 두께와 Doping이 Double Gate MOSFET 소자의 GIDL 특성에 미치는 영향 분석
대한전자공학회 학술대회
2010 .06
NbTi 초전도 접합 조건 변화에 따른 임계전류 특성 향상 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2000 .07
고자장 MRI 마그네트를 위한 NbTi 초전도 접합 공정 연구
한국초전도저온공학회 학술대회
2002 .01
Comparison of GIDL mechanism between MOSFET and FinFET
ITC-CSCC :International Technical Conference on Circuits Systems, Computers and Communications
2015 .06
NBTI 조건에서 양자 효과가 고려된 Si-SiO₂ 계면 트랩 형성모델을 사용한 pMOSFET 소자 열화 시뮬레이션
대한전자공학회 학술대회
2009 .07
저전력 응용을 위한 28 ㎚ 금속 게이트/high-k MOSFET 디자인
전기학회논문지
2008 .02
RF Sputtering법에 의한 NbTi박막 제조연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1994 .11
열간압연 온도와 NbTi 초전도 선재의 임계전류밀도 상관 관계 분석 연구
한국소성가공학회 학술대회 논문집
2019 .05
모스 트랜지스터에서 드레인-게이트 중첩영역의 게이트-유기-드레인-누설(GIDL) 전류 열화
대한전자공학회 학술대회
1995 .12
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