메뉴 건너뛰기
.. 내서재 .. 알림
소속 기관/학교 인증
인증하면 논문, 학술자료 등을  무료로 열람할 수 있어요.
한국대학교, 누리자동차, 시립도서관 등 나의 기관을 확인해보세요
(국내 대학 90% 이상 구독 중)
로그인 회원가입 고객센터 ENG
주제분류
인문학
인문학 일반 역사학 철학 종교학 어문학 기타 인문학
사회과학
사회과학 일반 경영학 관광학 교육학 군사학 문헌정보학 법학 사회학 신문방송학 심리과학 정치외교학 지리학 행정학 경제학 무역학 인류학 기타 사회과학
자연과학
자연과학 일반 물리학 생물학 생활과학 수학·통계학 천문학 지구과학 화학 기타 자연과학
공학
공학 일반 건축공학 기계공학 산업공학 재료·에너지공학 전기전자공학 조선해양공학 화학공학 컴퓨터학 기타공학
의약학
의학 일반 간호학 수의학 약학 한의학 기초의학 임상의학 기타 의약학
농수해양학
농수해양학 일반 농학 수산학 식품과학 임학 축산학 해상운송학 기타 농수해양학
예술체육학
예술 일반 디자인 미술 미용 사진 음악학 의상 체육 공연매체예술 기타 예술체육학
복합학
학제간연구 과학기술학 뇌인지과학 기술정책 기타 복합학

ENG

추천
검색
질문

논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
조영태 (Changwon National Univ.) 정윤교 (Changwon National Univ.)
저널정보
한국기계가공학회 한국기계가공학회지 한국기계가공학회지 제12권 제1호
발행연도
2013.2
수록면
104 - 109 (6page)

이용수

표지
📌
연구주제
📖
연구배경
🔬
연구방법
🏆
연구결과
AI에게 요청하기
추천
검색
질문

이 논문의 연구 히스토리 (2)

2013

롤러 가압 임프린트 공정에서 잔류막 두께 예측에 관한 연구
조영태 ,  정윤교 한국기계가공학회지 2013.02 학술저널

2012

롤러 가압 임프린트 공정에서 잔류막에 미치는 공정 변수의 영향
조영태 ,  정윤교 대한기계학회 춘추학술대회 2012.05 학술대회자료

초록· 키워드

오류제보하기
In order to apply nano imprint technology in large area process, roller pressing is promising because of its low cost and high productivity. When pressing mold by roller, liquid resin is locally squeezed between mold and substrate. In this study, the main focus is to understand which process parameter affects residual layer. To do this, a simple analytical model was introduced. Especially, we consider the aspect ratio of patterns as essential cause of variation of the thickness in the equation. As a result, when the aspect ratio of pattern in the mold increases, the thickness of residual layer also increases. In conclusion, we show that the uniformity of residual layer could be accomplished by the control of velocity and pressing force in roller pressing imprint process.
#Nano Imprint Process(나노 임프린트 공정) #Roller Pressing(롤러 가압) #Residual Layer(잔류막)

목차

ABSTRACT
1. 롤러 가압 임프린트 공정
2. 모델링
3. 변수의 영향
3. 결론
REFERENCES

참고문헌 (7)

참고문헌 신청
1. [학술지(정기간행물)] - Michael D. Austin / 2004 / Fabrication of 5 nm line width and 14 nm pitch features by nanoimprint lithography / Applied Physics Letters 84 (26) : 5299 ~ 5301 google schola 2. [학술지(정기간행물)] - Wei Wu / 2008 / Sub-10nm nanoimprint lithography by Wafer Bowing / Nano Letters 8 (11) : 3865 ~ 3869 google schola 3. [학술대회논문] - Ian McMackin / 2004 / Step and repeat UV Nanoimprint Lithography Tools and Processes / Proceedings of SPIE 5374 : 222 ~ 231 google schola 4. [학술지(정기간행물)] - Hua Tan / 1998 / Roller Nanoimprint Lithography / Journalof Vacuum Science & Technology B 16 (16) : 3926 ~ 3928 google schola 5. [학술지(정기간행물)] - J.G. Kim / 2009 / Large Area Pattern Replication by Nanoimprint Lithography for LCD-TFT Application / Microelectronic Engineering 86 (12) : 2427 ~ 2431 google schola

이 논문의 저자 정보

이 논문과 함께 이용한 논문

정밀 롤투롤 인쇄를 위한 핵심 요소 기술
이택민 ,  Bongmin Kim ,  Hyun Sook Han 외 2명 대한기계학회 춘추학술대회 2012 .05
롤투롤(Roll-to-Roll) 연속공정에서 공기부양 회전이송 시스템(Air-turn Bar) 유체 구조 연성해석
이은규 ,  김남석 ,  마이덕다이 외 1명 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 2010 .11
임프린트 공정에서 50nm급 패턴의 공정 변수에 따른 잔류막 두께 변화 관찰
김윤재 ,  정지윤 ,  조영태 외 1명 한국기계가공학회 춘추계학술대회 논문집 2014 .11
반복임프린트를 이용한 패턴 smoothing 효과
정지윤 ,  조영태 ,  정윤교 한국기계가공학회 춘추계학술대회 논문집 2014 .11
패턴 형상에 따른 와이어 그리드 편광자의 특성 해석
박시은 ,  김동진 ,  정지윤 외 2명 한국기계가공학회 춘추계학술대회 논문집 2013 .11

최근 본 자료

전체보기

댓글(0)

0

UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2014-581-000192557