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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
이택홍 (호서대학교) 김재영 (호서대학교)
저널정보
한국가스학회 한국가스학회지 한국가스학회지 제15권 제3호
발행연도
2011.6
수록면
74 - 78 (5page)

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반도체용 특수가스인 BF3는 반도체 생산공정에서 웨이퍼의 플라즈마 식각 공정과 화학증기증착(CVD : Chemical vapor deposition) chamber 세정공정 등에 사용되며, BF₃ 가스는 boron Ion Implant 공정에서 p-type doping을 위한 원료 등으로 사용된다. 본 연구에서는 간단한 공정으로 NaBF₄ 와 KBF₄의 열분해를 통하여 BF₃ 가스의 생산에 대해서 연구 하였다.

목차

요약
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 연구방법
Ⅲ. 결과 및 고찰
Ⅴ. 결론
참고문헌

참고문헌 (9)

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