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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2012.12
- 수록면
- 1,828 - 1,835 (8page)
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In this paper, a conceptual design and a detailed design of novel cylindrical magnetic levitation stage is introduced. This is came from planar-typed magnetic levitation stage. The proposed stage is composed of cylinder-typed permanent magnet array and semi-cylinder-typed 3 phase winding module. When a proper current is induced at winding module, a magnetic levitation force between the permanent magnet array and winding module is generated. The proposed stage can precisely move the cylinder to rotations and translations as well as levitations with the magnetic levitation force. This advantage is useful to make a nano patterning on the surface of cylindrical specimen by using electron beam lithography under vacuum. Two methods are used to calculate required magnetic levitation forces. The one is 2D FEM analysis, the other is mathematical modeling. This paper shown that results of two methods are similar. An assistant plate is introduced to reduce required currents of winding module for levitations in vacuum. The mathematical model of cylindrical magnetic levitation stage is used for dynamic simulation of magnetic levitations. A lead-lag compensator is used for control of the model. Simulation results shown that the detail designed model of the cylindrical magnetic levitation stage with the assistant plate can be controlled very well.
목차
Abstract
1. 서론
2. 신개념 원통형 자기부상 스테이지
3. 원통형 자기부상 스테이지의 모델링
4. 시뮬레이션 결과
5. 결론
References
참고문헌 (12)
참고문헌 신청
1. [학술지(정기간행물)] - L Jay Guo / 2004 / Recent progress in nanoimprint technology and its applications / J. Phys. D: Appl. Phys 37 : 123 ~ 141
2. [학술지(정기간행물)] - C.M. Sotomayor / 2003 / Nanoimprint lithography: an alternative nanofabrication approach / Materials Science and Engineering C 23 : 23 ~ 31
3. [학술대회논문] - Shuhuai Lan / 2008 / Survey on Roller-type Nanoimprint Lithography (RNIL) Process / ICSMA 2008 : 371 ~ 376
4. [학술지(정기간행물)] - Shih Chun Tseng / 2010 / Electron Beam Lithography on Cylindrical Roller / Journal Microelectronic Engineering 87 (5-8) : 943 ~ 946
5. [학술지(정기간행물)] - Noriyuki Unno / 2011 / Fabrication of a seamless roll mold using inorganicelectron beam resist with postexposure bake / Journal of Vacuum Science & Technology B 29 (6)
2. [학술지(정기간행물)] - C.M. Sotomayor / 2003 / Nanoimprint lithography: an alternative nanofabrication approach / Materials Science and Engineering C 23 : 23 ~ 31
3. [학술대회논문] - Shuhuai Lan / 2008 / Survey on Roller-type Nanoimprint Lithography (RNIL) Process / ICSMA 2008 : 371 ~ 376
4. [학술지(정기간행물)] - Shih Chun Tseng / 2010 / Electron Beam Lithography on Cylindrical Roller / Journal Microelectronic Engineering 87 (5-8) : 943 ~ 946
5. [학술지(정기간행물)] - Noriyuki Unno / 2011 / Fabrication of a seamless roll mold using inorganicelectron beam resist with postexposure bake / Journal of Vacuum Science & Technology B 29 (6)
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