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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
하정훈 (홍익대학교)
저널정보
대한산업공학회 산업공학 (IE interfaces) 산업공학 (IE interfaces) 제21권 제2호
발행연도
2008.6
수록면
151 - 160 (10page)

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Defect size distribution is a probability density function for the defects that occur on wafers or glasses during semiconductor/LCD fabrication. It is one of the most important information to estimate manufacturing yield using well-known statistical estimation methods. The defects are detected by automatic optical inspection (AOI) facilities. However, the data that is provided from AOI is not accurate due to resolution of AOI and its defect detection mechanism. It causes distortion of defect size distribution and results in wrong estimation of the manufacturing yield. In this paper, I suggest a size conversion method and a maximum likelihood estimator to overcome the vague defect size information of AOI. The methods are verified by the Monte Carlo simulation that is constructed as similar as real situation.
#defect size distribution #automatic optical inspection #semiconductor and LCD manufacturing #yield estimation #maximum likelihood estimator #Monte Carlo simulation

목차

1. 서론
2. Defect를 이용한 die수율의 도출 방법 고찰
3. AOI의 검출원리 및 문제점
4. AOI 검출 데이터의 size 변환 방법
5. 결론
참고문헌

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