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논문 기본 정보

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학술저널
저자정보
Chun-Nam Cha (경상대학교) Mu-Hee Choi (경상대학교) Tae-Young Ma (경상대학교)
저널정보
대한전기학회 Journal of Electrical Engineering & Technology Journal of Electrical Engineering & Technology Vol.7 No.4
발행연도
2012.7
수록면
596 - 600 (5page)

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ZnO-SnO₂ films were deposited by rf magnetron sputtering using a ZnO-SnO₂ (2:1 molar ratio) target. The target was made from a mixture of ZnO and SnO₂ powders calcined at 800℃. The working pressure was 1 mTorr, and the rf power was 120 W. The ratio of oxygen to argon (O₂:Ar) was varied from 0% to 10%, and the substrate temperature was varied from 27℃ to 300℃. The crystallographic properties and the surface morphologies of the films were studied by X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM), and atomic force spectroscopy (AFM). The ZnO-SnO₂ films deposited in O₂:Ar = 10% exhibited resistivity higher than 10? Ωcm and transmittance of more than 80% in the visible range.

목차

Abstract
1. Introduction
2. Experimental Procedure
3. Results and Discussion
4. Conclusion
Acknowledgements
References

참고문헌 (10)

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