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이강승 김영수 (포항공과대학교) 이경택 (포항공과대학교) 홍윤기 (포항공과대학교) 정윤하 (포항공과대학교)
저널정보
대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 2006년 하계종합학술대회
발행연도
2006.6
수록면
525 - 526 (2page)

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In this paper, we have proposed a novel process using twostep electron beam lithography to fabricate 20 ㎚ T-gates for high performance MODFETs. Two-step lithography reduces electron forward scattering by defining the foot on a thin (100 ㎚) bottom-layer of polymethyl methacrylate (PM ... 전체 초록 보기

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