LDD구조를 갖는 n-채널 다결정 실리콘 TFT소자에서 수소처리의 영향

장원수; 조상운; 정연식; 이용재

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: 장원수 (동의대학교) 조상운 (동의대학교) 정연식 (LG필립스) 이용재 (동의대학교)

저널정보: 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 2003년 하계종합학술대회

발행연도: 2003.7

수록면: 1,105 - 1,108 (4page)

이용수

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조상운

소속기관 단국대학교

주요연구분야 공학 > 전기전자공학 > 전자공학

논문수 5 이용수 121

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소속기관 LG필립스

주요연구분야 공학 > 전기전자공학 > 전자공학 공학 > 컴퓨터학

논문수 20 이용수 625

이용재

소속기관 한밭대학교

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논문수 78 이용수 2,148

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2013-569-000894241

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상세 메타 데이터	발행기관 메타	발행기관 이명, 영문명, 창립연도, 홈페이지URL, 발행기관 소개
	간행물 메타	부제목, 간행물 유형, ISSN, ISBN, 최초발행연도, 폐간연도, 간행빈도, 발행주기, 등재사항, 이용수, 피인용수, 권호수, 논문수, 표지이미지
	논문 메타	작성 언어, 부제목, 대등제목, 목차, 키워드, 초록, 이미지, 참고문헌, 이용수, 피인용수, 논문활용도, DBpia통합주제분류, KDC분류, DDC분류, 한국연구재단분류, UCI, DOI
	저자 메타	소속기관, 소속부서, 직급, 연구분야, 연구키워드, 이용수, 피인용수, 저자 논문활용도

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