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저자정보
이순원 (한국기계연구원) 박성제 (한국기계연구원) 정준호 (한국기계연구원) 이응숙 (한국기계연구원) 최준혁 (한국기계연구원)
저널정보
대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2010년도 추계학술대회 강연 및 논문 초록집
발행연도
2010.11
수록면
4,272 - 4,275 (4page)

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The present work tried to achieve the goal of improving areal uniformity and minimizing residual thickness through applying roll pressing. Soft mold of PUA (poly(urethane acrylate)) was first replicated from the master pattern comprised of hexagonal hole array of photonic crystals in pitch size of 540 ㎚ and height of 270㎚. It was wrapped around quartz roll with no separate adhesive film, and made in contact with silicon substrate. A drop of UV curable resin was dispensed just before roll imprint start, so that it is supposed to fill only into the empty space between nanopatterns in the soft mold and flat silicon substrate. UV exposure is made in the center of quartz roll, and illuminated toward the contact area because the resin in open space will not cure at the presence of oxygen. We achieved almost zero residual layer in the custom-designed process roll, while a problem of incompletely-cured resin created tilted shape of nanoholes.
#Roll imprint(롤 임프린트) #UV cuar(자외선 경화)

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험
3. 결과
4. 결론
후기
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