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We investigated the haze and the surface roughness of textured Si substrates etched by XeF₂ etching system with the etching parameters of XeF₂ pressure, etching time, and etching cycle, Here, the haze was obtained as a function of wavelength from the measured reflectance, The haze of textured Si substrates was strongly affected by the etching parameter of etching cycle. The surface coughness of textured Si substrates was calculated with the haze and the scalar scattering theory at the wavel ngth of BDD ㎚. Then, the surface coughness was compared with that measured by atomic force microscope, The surface coughness5 obtained by two methods was changed with the similar tendency in terms of XeF₂ etching conditions.
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
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