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이용수
1993
Abstract
1. 서론
2. 시료제작 및 측정
3. 결과 및 고찰
4. 결론
참고 문헌
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Laser CVD에 의한 Ⅲ-Ⅴ 화합물 반도체 표면의 불활성화
대한전자공학회 학술대회
1993 .07
Laser CVD에 의한 Ⅲ-V 화합물 반도체 표면의 불활성화 ( Passivation of Ⅲ-V compound semiconductor surface by laser CVD )
대한전자공학회 학술대회
1993 .07
Laser를 이용한 화합물 반도체 연구 ( Investigation of Compound Semiconductor by using Laser )
대한전자공학회 학술대회
1990 .01
Laser CVD SiO₂막의 제특성
대한전자공학회 학술대회
1991 .06
Laser CVD SiO2 막의 제특성 ( Characteristics of Laser CVD SiO2 Films )
대한전자공학회 학술대회
1991 .07
Laser CVD SiN막의 전기적 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1990 .11
Laser CVD 법에 의한 절연막의 국소선택적 형성에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1992 .06
Laser CVD 법에 의한 절연막의 국소선택적 형성에 관한 연구 ( A Study on Selective Area Deposition by Laser CVD Method )
대한전자공학회 학술대회
1992 .07
Laser CVD에 의한 Ta₂O₅ 형성과 그 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1994 .07
Laser CVD에 의한 비정질 실리콘 박막 형성
대한전자공학회 학술대회
1993 .07
Laser CVD에 의한 비정질 실리콘 박막 형성에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1993 .07
Laser Cvd Silicon Nitride막의 수명시간 예측에 관한 Simulation ( Simulation of Life Time Laser Cvd Sin Films )
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
Laser CVD silicon nitride막의 수명시간 예측에 관한 Simulation
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
A Study on Selective Area Deposition of Insulating Films by Laser CVD Method
전기학회논문지
1993 .09
Laser CVD SiO₂ 막의 절연파괴특성
대한전자공학회 학술대회
1991 .06
Laser CVD SiO2 막의 절연파괴특성 ( Breakdown Characteristics of Laser CVD SiO2 Films )
대한전자공학회 학술대회
1991 .07
Laser CVD에 의한 poly-Si 막의 퇴적 및 Laser etching 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1996 .07
CVD 기술동향
전자공학회지
2001 .08
공정 Simulation에 의한 Laser CVD SiO₂막 형성 기구 규명에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1997 .07
DEPOSITION OF A-SIC : H FILMS ON AN UNHEATED SI SUBSTRATE BY LOW FREQUENCY (50㎐) PLASMA Cvd
한국표면공학회지
1996 .12
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