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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제42권 제3호
발행연도
2009.6
수록면
128 - 132 (5page)

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Transparent conducting thin films of indium tin oxide(ITO) co-sputtered with aluminum-doped zinc oxide(AZO) were deposited on glass substrate by dual magnetron sputtering. It was found that the electrical properties and structural characteristics of the films are significantly changed according to the sputtering power of t he AZO target. The IAZTO film prepared w ith D .C power o f ITO at 1 00 W and R .F p ower of AZO at 50 W shows an electrical resistivity of 4.6×10<SUP>-4</SUP> Ω·㎝ and a sheet resistance of 30 Ω/□ (for 150 ㎚ thick). Besides of the improvement of the electrical properties, compared to the ITO films deposited at the same process conditions, the IAZTO films have very smooth surface, which is due to the amorphous nature of the films. However, the electrical conductivity of the IAZTO films was found to be deteriorated along with the crystallization in case of the high temperature deposition (above 310℃). In this work, high quality amorphous transparent conductive oxide layers could be obtained by mixing AZO with ITO, indicating possible use of IAZTO films as the transparent electrodes in OLED and flexible display devices.

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험장치 및 방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
참고문헌

참고문헌 (9)

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