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한국표면공학회 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2006년도 추계 학술발표회 초록집
발행연도
2006.10
수록면
73 - 73 (1page)

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2006

빠른 실리콘 식각에 대한 F₂/Ar 리모트 플라즈마와 N₂와NO 첨가효과
윤영배 ,  박성민 ,  이내응 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2006.10 학술대회자료
F2/Ar 리모트 플라즈마 산화막과 질화막의 화학적 식각에 대한 NO 및 N₂/O₂ 첨가효과
윤영배 ,  김덕진 ,  박성민 외 3명 한국진공학회 학술발표회초록집 2006.08 학술대회자료
F₂/Ar과 F₂/Ar/N₂ 리모트 플라즈마 산화막 식각에 대한 NO를 첨가효과
윤영배 ,  김덕진 ,  이내응 외 2명 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2006.04 학술대회자료

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목차

1. 서론
2. 본론
3. 결과
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임영대 ,  이승환 ,  유원종 외 2명 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2009 .10
NF3 remote plasma를 이용한 NO/Ar 첨가에 따른 Si 웨이퍼의 Roughness 변화
허욱 ,  안정호 ,  정창룡 외 1명 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2009 .10
F₂/Ar과 F₂/Ar/N₂ 리모트 플라즈마 산화막 식각에 대한 NO를 첨가효과
윤영배 ,  김덕진 ,  이내응 외 2명 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2006 .04

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